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  • 浆料粒径对CMP工艺缺陷水平的影响

    通过使用两种粒度测量仪器,对最常用的化学机械抛光(CMP)氧化物浆料(CabotSC-112)的浆料粒度进行了分析。其中一种仪器是PSS粒...

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  • CMP 研磨液中颗粒的评价技术

    在化学机械抛光过程中,各种研磨液用于晶圆平坦化处理。这些研磨液中颗粒浓度可达>1015颗/ml。除了用于抛光的大量颗粒外,研磨液...

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  • USP <788> Particle Counting AccuSize系列仪器用于不溶性微...

    医用注射液不能含有可见异物。不可见异物通过使用光阻法的法、或者显微镜法检测,或者两者同时使用。在测量体积>100 mL时一般用光...

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  • 708蛋白聚集

    基于治疗的蛋白质溶液聚集可能产生有害的免疫原性。对于较大尺寸的团聚体,可以测量这些团聚体,但在0.15至2微米范围内的较小团聚...

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  • 喷墨墨水过滤

    喷墨中过大的颗粒会导致分散沉降、不稳定或喷墨喷嘴失效。如果检测到颗粒过大,就可以采取措施控制颗粒大小。其中一种方法是通过...

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  • AN-754 ISO4406污染度等级

    污染是油品降解的唯一最大原因。如果不加以控制或预防,污染可能会导致系统严重故障。通常使用液体颗粒计数器(例如PSS AccuSize...

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  • CMP过滤效率

    CMP 解决方案在半导体技术高速公路上发挥着不可或缺的作用。它们是高密度集成电路生 产中必不可少的步骤。CMP 溶液是由多种组分...

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  • PSS仪器用于咖啡伴侣的等电点测试分析

    等电点可以通过滴定样品PH值,再用Nicomp 380 ZLS 记录Zeta电位,Zeta电位为0时的PH值就是等电点。 应用案例: 将奶精粉与去...

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  • Nicomp 380在线系列仪器在药物纳米颗粒应用分析

    纳米药物研究近些年主要着重在药物的传递方向并发展迅猛,纳米粒的大小可以有效减少毒性和副作用。所以,控制这些纳米粒的粒径大...

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  • PSS仪器用于咖啡伴侣的等电点测试分析

    等电点可以通过滴定样品PH值,再用Nicomp 380 ZLS 记录Zeta电位,Zeta电位为0时的PH值就是等电点。 应用案例: 将奶精粉与去...

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  • AccuSizer检测微泡

    超声对微泡的存在极为敏感,因此它们被用作造影剂,在各种超声分子成像程序中增强信号强度。这种方法通常称为造影增强超声(CEUS)...

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  • AN-170蛋白聚集

    在蛋白质溶液中聚集已被证明有有害的影响。对于较大的聚集体,可以测量这些聚集体,但是在0.150 nm至2微米范围内的较小聚集体具有...

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  • AccuSizer 780系列仪器在喷墨墨水粒度检测中的应用

    喷墨墨水的色素是在溶液中呈胶态分布的。色素的一定分散对避免沉降、不稳定或结块引起的喷墨失败都是很有必要的。为了确保最佳配...

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  • 17 PSS AN CMP10 CMP slurry 中的大颗粒

    化学机械抛光(CMP)工艺的质量取决于抛光设备和浆料,浆料由包含多种化学添加剂的液体中定义明确的固体颗粒组成。当今主要的生产...

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  • USP729脂质注射乳剂中球状体大小分布

    脂滴的大小是至关重要的,因为较大粒径的乳粒(>5μm)可以被困在肺部,也是乳化液破坏稳定的一个指标。

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